JPhysD编辑优选:先栅工艺提升原位SiNx/AlGaN/GaN MIS-HEMT器件阈值电压稳定性
本篇研究来自南京大学陆海教授课题组,本研究首次报道了基于原位MOCVD生长的高质量SiNx栅介质层与先栅工艺在金属-绝缘体-半导体(MIS)结构 AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)中的应用潜力。在系统的正/负偏压温度不稳定性(PBTI/NBTI)测试中,先栅工艺所制备器件相比于后栅工艺器件在阈值电压稳定性方面表现出显著提升。 文章介绍 Gate-first AlGaN/GaN HEMT technology for enhanced threshold voltage stability based on MOCVD-grown in situ SiNx Liang Cheng (程亮), Weizong Xu(徐尉宗), Danfeng Pan(潘丹峰), Huinan Liang(梁辉南), Ronghua Wang(王荣华), Youhua Zhu(朱友华), Fangfang Ren(任芳芳), Dong Zhou (周东), Jiandong Ye(叶建东), Dunjun Chen (陈敦军), Rong Zhang (张荣), Youdou Zheng (郑有炓) and Hai Lu(陆海) 通讯作者: 徐尉宗 南京大学 陆海 南京大学...